Novaĵoj

Malsupre ni enkondukos la diversajn karakterizaĵojn de TFT LCD-ekrano detale:

(1) Grandskala: la unua generacio de grandskala vitrosubstrato (3000mmx400mm) TFT en la fruaj 1990-aj jaroj, la vitra substrata areo disetendiĝis al 6800mmx880mm en la unua duono de 2000, kaj la vitra substrato 950mmx1200mm ankaŭ funkciis. lastatempe.

(2) Alta integriĝo: La rezolucio de la LCD-projekcia 1.3-cola TFT-ekrana blato estas XGA, kiu enhavas milionojn da pikseloj. La rezolucio estas. La filmdikeco de la 16,1-cola TFT amorfa silicio de SXGA (1280x1024) estas nur 50 nanometroj. La teknika integriĝo de TABONGLAS kaj SYSTEMONGLASS, la teknikaj postuloj por ekipaĵo kaj provizo, kaj la teknika malfacileco estas pli altaj ol tiuj de tradicia LSI.

(3) Kompletaj funkcioj: TFT likva kristala ekrano estis origine uzata kiel matrica adreselekta cirkvito, kiu plibonigis la karakterizaĵojn de likva kristala lumvalvo. Por alt-rezoluciaj ekranoj, la LCD-ekrano povas atingi altkvalitan, alt-rezolucian ekranon ĝustigante la tension en la 0-6-ekrana V-gamo (ĝia tipa valoro estas 0.2~4V) kaj ĝuste kontrolante la celelementon.

(4) Malalta kosto: Vitraj substratoj kaj plastaj substratoj esence solvas la kostan problemon de grandskalaj duonkonduktaĵoj integraj cirkvitoj kaj malfermas larĝan aplikan spacon por la aplikado de grandskalaj duonkonduktaj integraj cirkvitoj.

(5) Proceza fleksebleco: Krom sputtering, lasera annealing-teknologio, CVD (kemia vapora deponaĵo) MCVD povas elekti amorfan filmon, multproduktan filmon kaj unuproduktan filmon krom tradicia filmformado kiel molekula kemia vapordemetado. Ne nur povas fari silician filmon, sed ankaŭ fari aliajn aferojn. I-VI kaj tetra-V semikonduktaĵfilmoj.

En ĝeneralaj aplikaj kampoj, la ekrano de ekrano de likva kristalo LCD bazita sur teknologio TFT estas la kolona industrio de la informa socio, kaj ankaŭ povas esti uzata por la rapida disvolviĝo de maldikaj filmaj transistoroj. (TFT-OLED) plata ekrano.